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EQ-500SP注射泵屬于推進式注射泵，注液速度可在一定范圍內(nèi)進行調(diào)節(jié)，可根據(jù)實驗需求不同設置不同的注液速度，滿足不同實驗要求的需要。注射器的容積不同，裝液量有所不同，該設備標配20ml注射器。

HVC-SKJ真空腔體可用作于晶體生長爐爐腔，也可用于搭建其他真空系統(tǒng)。

HVC-SS高真空腔體用于自行搭建實驗真空系統(tǒng)，如等離子濺射、CVD或ALD等實驗，同時也可作為高真空儲存箱。

2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2可安裝直徑為2“的靶材，適用靶材種類較廣，如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環(huán)形NdFeB永磁體在濺射頭上，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。可與DC或RF電源配合使用。

1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD可安裝直徑為1“的靶材。可與直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，因此可濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。且采用高真空的結構設計，可提高鍍膜質(zhì)量。

100W小型手動匹配型射頻電源RF-100-LD頻率為13.56MHz，專門與本司1“的磁控濺射頭配用，可搭建成一套較廉價的濺射鍍膜系統(tǒng)，用于制作非導電薄膜。