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蒸發鍍膜儀是制備集成電路的關鍵設備之一

更新時間:2025-05-27      點擊次數:391
  在半導體制造中,蒸發鍍膜儀可用于沉積金屬電極、絕緣層等薄膜,是制備集成電路的關鍵設備之一。例如,通過蒸發鋁等金屬,可以在硅片上形成導電的電極,實現電子元件之間的連接。在電子元器件的生產中,如電容器、電感器等,也常常利用蒸發鍍膜技術來制備薄膜介質或導電層,以提高器件的性能和可靠性。
 
  用于制造光學鏡片的增透膜、反射膜等。通過蒸發特定的材料,如氟化鎂、銀等,可以在光學鏡片表面形成一層厚度均勻、光學性能優良的薄膜,減少光線的反射損失,提高鏡片的透光率或反射率。在激光技術中,可用于制備激光鏡片的防護膜、反射鏡等,滿足激光系統對光學元件的高要求。
 
  蒸發鍍膜儀的組成:
 
  1.真空腔體:這是蒸發鍍膜儀的主體部分,用于提供一個密閉的高真空環境。腔體的設計通常考慮到易于操作和維護,如采用前開門式結構,方便取放基片、更換蒸發源以及進行日常的清潔和保養。腔體的大小和形狀會根據不同的應用需求有所差異,可以容納較大尺寸的基底,滿足大規模生產或特殊實驗的要求。
 
  2.真空系統:由真空泵、真空閥門、真空管道等組成,負責將腔體內的氣體抽出,以達到所需的真空度。常見的真空泵包括機械泵、分子泵等。機械泵主要用于粗抽,能夠快速將腔體內的大部分氣體抽出,而分子泵則用于進一步提高真空度,其工作原理是基于高速旋轉的轉子將氣體分子吸附并排出,從而獲得真空度。
 
  3.蒸發源:是蒸發材料加熱蒸發的關鍵部件,根據加熱方式的不同,有各種不同的類型。如電阻加熱源中的鎢舟、鉬舟等,它們能夠承受高溫,且與蒸發材料有良好的熱接觸,確保材料均勻受熱蒸發。電子束蒸發源則相對復雜,它通過電子槍產生高能電子束,聚焦在蒸發材料上,使其迅速熔化并蒸發。
 
  4.基底支架與樣品臺:用于固定基底,使其處于合適的位置以接收蒸發材料形成的薄膜。樣品臺通常可以進行旋轉、傾斜等運動,這樣可以保證薄膜在基底表面的均勻性。在有些蒸發鍍膜儀中,樣品臺還能夠實現多工位切換,提高鍍膜效率。
 
  5.控制系統:負責對整個鍍膜過程進行準確的控制和調節。它可以設定蒸發溫度、蒸發時間、真空度等參數,并根據預設的程序自動運行。同時,控制系統還能實時監測設備的各項狀態,如真空度、溫度等,一旦出現異常情況,能夠及時發出警報并采取相應的保護措施。
蒸發鍍膜儀
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